2022年4月27日　UBIリサーチ

10,000ppiの解像度を実現するためには、１μｍのパターン幅と0.2μｍのシャドウ距離が不可欠であり、これらの基準を満たすためには、従来とは異なる新しい蒸着技術が必要である。

0.2μmのシャドウ距離を実現するためには、有機分子入射角を維持した状態で従来より非常に薄いFMMを使用する方法と、商用化中のFMMをそのまま使用するが面ソース蒸着方式を用いて入射角を4°まで低減する方法がある。

面ソース蒸着方式は、メタルプレート上部に全体的に均一にホストとドーパント薄膜を積層してドナーフィルムを先に作製した後、このドナーフィルムの位置を切り替えて再蒸発させる技術である。 Shadow effectが生じるpointソースとLineソース蒸着技術とは異なり、面ソース蒸着技術を使用すれば入射角が0°近くまで低減することになり超高解像度のOLED製作が可能だ。最近では、量産ラインでのタックタイムを80秒に目指して技術を開発中だ。