日付：2026年7月8日

出典：WitDisplay

■ シリコン基板Micro OLED向け装置で国産化を実現

このほど、江蘇智芯達科技有限公司は、自社開発による国産初のシリコン基板ディスプレイ用IZO低温・低損傷マグネトロンスパッタリング製造装置の最終調整および検収を完了し、下流のシリコン基板Micro OLED主要生産ラインへ正式出荷した。

この成果は、AR/VR分野における中核技術であるシリコン基板ディスプレイ用成膜製造装置において、中国が重要な国産化突破を実現したことを意味する。これまで長年にわたり海外製造装置メーカーが独占してきた市場構造を打破する動きとして注目される。

シリコン基板Micro OLED（OLED on Silicon）は、AR/VR用マイクロディスプレイや車載向け高性能ニアアイディスプレイの中核デバイスである。デバイス内部の有機発光層は極めて熱に敏感であり、従来の輸入スパッタリング装置では高温や高エネルギー粒子の衝突により有機層が損傷を受けやすく、発光効率、寿命、歩留まりに直接的な影響を与えていた。このため、低温かつ低損傷の成膜製造装置は、国内産業チェーンにおける重要なボトルネックとなっていた。

■ 低温・高精度成膜技術で国際水準を達成

今回出荷された製造装置は、智芯達が独自開発したコア特許技術を採用しており、成膜時の基板温度を40～60℃の範囲で安定制御することが可能である。これにより、高エネルギー粒子によるシリコン基板上の有機膜層へのダメージを大幅に低減している。

さらに、独自設計のターゲット構造により、膜厚均一性の誤差を±2％以内に抑え、ナノメートルレベルの膜厚精度を実現した。装置全体のプロセス性能は国際的な最先端輸入装置と同等水準に達しており、低温保護性能、生産能力、歩留まり制御など一部の指標ではこれを上回る総合性能を示している。

■ 完全自主開発体制で産業競争力を強化

新型ディスプレイ向け真空成膜製造装置分野に注力する智芯達は、中国と韓国に研究開発拠点を構築し、完全な自主知的財産体系を確立している。装置の中核となるチャンバー構造、マグネトロンカソード、真空搬送機構、スマート制御ユニットに至るまで、すべて自社開発による国産化を実現している。

今回のシリコン基板ディスプレイ用IZO低温・低損傷マグネトロンスパッタリング製造装置の出荷は、国内におけるシリコン基板ディスプレイ専用スパッタリング装置の空白を埋めるものである。これにより、国内のニアアイディスプレイメーカーに対し、高コストパフォーマンスかつ全工程の国産化を実現したプロセスソリューションを提供できるようになり、生産ラインの設備投資および運用コストの低減に寄与する。

さらに、AR/VRおよび車載向けシリコン基板ディスプレイ産業チェーンにおける自立性と制御性を高め、関連産業の成長を加速させる効果が期待される。

江蘇智芯達の呉哲鎬総経理は、今後もハイエンド真空成膜製造装置の研究開発への投資を継続し、より多くの高性能スパッタリング装置の量産展開を推進すると表明した。自主開発の製造装置技術を基盤として、中国の新型ディスプレイ産業の高品質成長を支援していく方針である。